Abstract
眾所周知,過渡金屬如卟啉中的鐵與氧氣的結合和反應對許多生物功能和催化氧化至關重要.在這些反應中,過渡金屬一般含d價電子,并且金屬被氧化往往是其中一個重要的反應步驟.近年來,氧氣與d0過渡金屬化合物如Hf(NR2)4(R=烷基)的反應被廣泛用來制備金屬氧化物薄膜以作為新型微電子器件中的柵(門)絕緣材料.這篇專題文章討論我們近期對這些反應以及TiO2薄膜形成的研究.在許多氧氣與dn過渡金屬化合物的反應中,總是金屬被氧化.然而,在d0過渡金屬化合物如Hf(NMe2)4和Ta(NMe2)4(SiR3)與氧氣的反應中通常是配體被氧化.如—NMe2和—SiR3配體分別形成了—ONMe2和—OSiR3配體.反應機理和理論方面的研究顯示了微電子金屬氧化物薄膜形成的途徑.
| Translated title of the contribution | Reactivities of d<sup>0</Sup>transition metal complexes toward oxygen:Synthetic and mechanistic studies |
|---|---|
| Original language | Chinese (Simplified) |
| Pages (from-to) | 1296-1307 |
| Journal | 中国科学. B辑, 化学 |
| Volume | 39 |
| Publication status | Published - 2009 |
Fingerprint
Dive into the research topics of 'Reactivities of d<sup>0</Sup>transition metal complexes toward oxygen:Synthetic and mechanistic studies'. Together they form a unique fingerprint.Cite this
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